خبر کامل
چین منبع نور EUV رومیزی ساخت؛ ساخت تراشه‌های ۱۴ نانومتری بدون نیاز به تجهیزات غربی
تولید منبع نور EUV رومیزی در چین؛ گامی کوچک اما مهم برای استقلال از ASML
پژوهشگران چینی موفق به توسعه یک منبع نور فرابنفش شدید (EUV) در ابعاد رومیزی شده‌اند که می‌تواند مسیر تولید تراشه‌های ۱۴ نانومتری را بدون اتکا به ماشین‌آلات غول‌پیکر شرکت هلندی ASML هموار کند. این دستاورد، هرچند جایگزین تجهیزات پیشرفته تولید انبوه نیست، اما گامی مهم در جهت استقلال چین در حوزه تحقیق و توسعه نیمه‌رساناها به شمار می‌آید.
کاربردها و نقش استراتژیک دستگاه جدید
این فناوری جدید در درجه اول یک ابزار کاربردی برای تولید محدود، تحقیق و توسعه، و بازرسی تراشه‌ها محسوب می‌شود. در واقع، این ابزار یک نسخه کوچک‌شده از ماشین‌های ASML نیست، اما می‌تواند نقش مهمی در حوزه‌های پژوهشی و ساخت محدود تراشه ایفا کند و برای چین، یک پیشرفت قابل توجه در مسیر کاهش وابستگی به تجهیزات غربی است.
گزارش‌ها نشان می‌دهند که این دستگاه در زمینه‌های زیر قابل استفاده است:
- نمونه‌سازی تراشه‌های کوانتومی.
- تشخیص عیب در فوتومسک‌های لیتوگرافی.
- بررسی ساختار ترانزیستورها.
- افزایش کیفیت تولید تراشه‌های ۱۴ و ۲۸ نانومتری.
مقایسه فنی: تفاوت رویکرد چین و ASML
ماشین‌های EUV شرکت ASML که برای تولید انبوه طراحی شده‌اند، معمولاً از پلاسمای تولیدشده با لیزر برای انفجار قطرات قلع استفاده می‌کنند. این فرآیند نیازمند آینه‌های کلکتور بسیار بزرگ است که ساخت داخلی آن‌ها هنوز برای چین امکان‌پذیر نیست.
در مقابل، دستگاه جدید چینی از روش متفاوتی بهره می‌برد. این سیستم با به‌کارگیری لیزر فمتوثانیه و شلیک آن به گاز آرگون، نور EUV را از طریق فرآیند تولید هارمونیک‌های بالا (HHG) ایجاد می‌کند. این روش نوآورانه نیاز به آینه‌های عظیم یا قطرات قلع را از بین می‌برد و سیستمی ساده‌تر با قابلیت تولید طول‌موج‌های قابل تنظیم بین ۱ تا ۲۰۰ نانومتر ارائه می‌دهد.
تفاوت‌های کلیدی در مشخصات فنی
| ویژگی | دستگاه رومیزی چینی | ماشین‌های صنعتی ASML |
|---|---|---|
| ابعاد | اندازه رومیزی (آزمایشگاهی) | چند ده متر |
| توان خروجی | حدود یک میکرووات در هر پالس | حدود ۲۰۰ وات (برای تولید انبوه) |
| قابلیت تولید تراشه | ۱۴ و ۲۸ نانومتر (بازرسی و نمونه‌سازی) | ۳ تا ۷ نانومتر (تولید انبوه) |
| هزینه | بسیار پایین | بسیار بالا |
محدودیت‌های توان در تولید انبوه
یکی از مهم‌ترین تفاوت‌ها، توان خروجی دستگاه است. توان دستگاه جدید قابل مقایسه با تجهیزات ASML نیست؛ ماشین‌های صنعتی EUV برای تولید انبوه حدود ۲۰۰ وات توان نیاز دارند، در حالی که دستگاه چینی تنها حدود یک میکرووات انرژی در هر پالس مصرف می‌کند؛ یعنی تقریباً ۲۰۰ میلیون برابر کمتر. به همین دلیل، ساخت تراشه‌های پیشرفته در مقیاس صنعتی با آن ممکن نیست، اما توان آن برای کاربردهای تحقیقاتی و نمونه‌سازی تراشه‌های کوچک کاملاً مناسب ارزیابی می‌شود.
این پیشرفت در راستای کاهش وابستگی چین به تجهیزات غربی در حوزه تحقیق و توسعه تراشه‌ها و حرکت در چهارچوب محدودیت‌های بین‌المللی صورت گرفته است.
درباره هوش‌مصنوعی دست‌اول:
تمامی اخبار دست‌اول توسط دستیار هوش مصنوعی «هوشنگ» پردازش، صحت‌سنجی، خلاصه و بازنویسی شده است. هوشنگ هر روز با داده‌های جدید آموزش داده می‌شود و با نظارت دقیق انسانی و سردبیری دست‌اول در حال بهتر شدن است.
شما می‌توانید از چت‌بات و سایر ابزارهای هوشنگ به صورت رایگان استفاده کنید.
زمان انتشار:
۱۲:۳۰ - ۱۴۰۴/۰۹/۰۳